進(jìn)口真空鍍膜機(jī) ei-5z 日本ULVAC 高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 ei-5z

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產(chǎn)品價(jià)格： < 面議

產(chǎn)品型號(hào)：ei-5z

品牌：愛發(fā)科 ULVAC

公司名稱：青島益嘉元科貿(mào)有限公司

所在地：山東青島

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產(chǎn)品簡介

真空鍍膜機(jī)ei-5z是用于在半導(dǎo)體或特種材料的基板上進(jìn)行多種金屬或合金以及ITO材料真空鍍膜的批處理式高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。
進(jìn)口真空鍍膜機(jī)ei-5z日本ULVAC高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備可通過觸摸屏進(jìn)行集中操作控制,自動(dòng)完成從真空排氣至鍍膜的所有過程,適用于研究開發(fā)及小批量生產(chǎn)。
進(jìn)口真空鍍膜機(jī) ei-5z 日本ULVAC 高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

產(chǎn)品詳細(xì)信息

真空鍍膜機(jī) ei-5z

日本ULVAC

高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

日本原裝進(jìn)口

進(jìn)口真空鍍膜機(jī) ei-5z 日本ULVAC 高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備是用于在半導(dǎo)體或特種材料

的基板上進(jìn)行多種金屬或合金以及ITO材料真空鍍膜的批處理式高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。

進(jìn)口真空鍍膜機(jī) ei-5z 日本ULVAC 高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備可通過觸摸屏進(jìn)行集中操

作控制,自動(dòng)完成從真空排氣至鍍膜的所有過程,適用于研究開發(fā)及小批量生產(chǎn)。

特點(diǎn):

y可同時(shí)安裝電子束蒸發(fā)源和電阻加熱式蒸發(fā)源 ;

y能夠適合垂直入射的蒸發(fā)鍍膜工藝 ;

y設(shè)備適合穿墻式安裝設(shè)置方式 ;

y設(shè)備采用全自動(dòng)控制的運(yùn)行方式、高效、穩(wěn)定。

【規(guī)格】

型號(hào)	Ei-5Z
1. 基板 1) 材料 2) 尺寸規(guī)格	?硅(Si)、砷化鎵(GaAs)、氮化鎵(GaN)、玻璃(Glass)、陶瓷(Ceramic)等 ?Φ2 ~8inch圓片及各種形狀的基板
2. 真空條件 1) 前級(jí)泵 2)主泵 3) 極限壓強(qiáng) 4) 排氣速度	?油旋片泵(型號(hào):EC-803) 排氣速度:1340/1600L/min at 50/60Hz ?低溫泵(CRYO-U16P) 排氣速度(N2):5000L/sec ?3.0×10-5Pa 或更低 ?20分鐘內(nèi)達(dá)到 3.0×10-4 Pa
3. 成膜 1) 蒸發(fā)源 2) 基板保持架 3) 膜厚均勻性	?電子束蒸發(fā)(10kw,16kw), 熱阻蒸發(fā) / 擋板共用 ?公轉(zhuǎn)盤,行星盤 ?基板內(nèi)、基板間Φ2~8inch均在±5%以內(nèi)
4. 基板加熱	*?紅外燈加熱 (高350°C)**
5. 操作模式	?GPCS-2700 觸摸屏控制: PC+PLC
6. 附設(shè) 1) 供電 2) 冷卻水 3) 壓縮空氣 4) 放氣(氮?dú)?/span>) 5) 接地	?AC200V±10%,φ3,50/60 Hz,50 kVA ?29 L/min, 20~28°C, 電阻率 5 kΩcm,需要壓力 0.4 MPa, 背壓 0.05 MPa ?0.4 ~0.7 MPa ?0.2 MPa放氣及低溫泵再生 ?A & D (JEM,JEC)