采用先進(jìn)的第三代GEMINI鏡筒的∑IGMA場發(fā)射掃描電子顯微鏡在處理所有材料方面有杰出表現(xiàn)。GEMINI鏡筒因其操作簡單，極低壓成像和超穩(wěn)定探測電流等優(yōu)勢得到廣大用戶的認(rèn)可，同時(shí)可提供高分辨率的能譜分析和波譜分析.

    SUPRA系列電子顯微鏡的核心就是獨(dú)特的GEMINI電子光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)，打破了傳統(tǒng)的電子光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)許多局限性。在GEMINI鏡筒中，電子束僅交叉一次，即在試樣表面上的聚焦點(diǎn)處，這樣就徹底消除了電子束能量發(fā)散擴(kuò)大的問題。尤其在低加速電壓情況下，GEMINI物鏡可以提供出色的分辨率和圖像質(zhì)量，同時(shí)不會影響操作的方便性。   

     ∑IGMA可處理直徑達(dá)250mm和高為145mm的試樣，此外，理想的共面設(shè)計(jì)使得能譜分析（EDS）和背散射電子分析（EBSD）同時(shí)使用。

用途：

    掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域，進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。

技術(shù)參數(shù):   

分辨率： 1.3nm@20KV    1.5nm@15KV      2.8nM@1KV   

放大倍數(shù)：12 - 1,000,000x   

加速電壓：0.1V-30KV   

探針電流：4 pA - 20nA(4pA-40nA 可選)   

樣品室：  330 mm (?) x 270 mm (h)   

樣品臺：  5軸驅(qū)動優(yōu)中心全自動   

          X = 125 mm   

          Y = 125 mm   

          Z = 50mm  

          傾斜角T = 0 - 90°   

          R = 360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)   

系統(tǒng)控制：基于Windows XP 的SmartSEM操作系統(tǒng),可選鼠標(biāo)、鍵盤、控制面板控制