掃描電子顯微鏡 EVO MA 10/LS 10
產(chǎn)品簡介
世界**光學(xué)品牌,可見光學(xué)和電子光學(xué)的***。其電子光學(xué)前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋)和ZEISS。1965年推出****臺商業(yè)化掃描電子顯微鏡;1985年推出世界上**臺數(shù)字化掃描電子顯微鏡。
產(chǎn)品詳細信息
EVO系列電鏡是高性能、功能強大的高分辨應(yīng)用型掃描電子顯微鏡。MA 10用于材料領(lǐng)域,LS 10用于生命科學(xué)領(lǐng)域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術(shù)級的物鏡設(shè)計,提供高低真空成像功能,可對各種材料表面作分析,并且具有業(yè)界**的X射線分析技術(shù)。**性的Beamsleeve的設(shè)計,確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像,同時還可以進行準(zhǔn)確的能譜分析。樣品臺為五軸全自動控制。標(biāo)準(zhǔn)的高效率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護)成像分析。
用途:
掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。
技術(shù)參數(shù):
分辨率: 3.0nm@30KV(SE and W) 4.0nm@30KV(VP with BSD)
加速電壓:0.2—30KV
放大倍數(shù):7—1000000x
探針電流:0.5PA-5μA
X-射線分析工作距離:8.5mm 35度接收角
低真空壓力范圍:10—400Pa (LS10:10-3000Pa)
工作室:310mm(φ)×220mm(h)
5軸優(yōu)中心自動樣品臺:X=80mm Y=100mm Z=35mm T=0-90°R=360°
*大試樣高度:100mm,*大試樣直徑:200mm
系統(tǒng)控制:基于Windows XP 的SmartSEM操作系統(tǒng)
主要特點:
可變壓力下操作
超大移動平臺
快速抽真空
未來的保證,可升級為水蒸氣擴展圖像
高亮度LaB6資源選擇
光線套選擇
技術(shù)優(yōu)勢:
通過網(wǎng)絡(luò)可遠程控制
可移動大平臺
通用圖像處理
改進了低真空圖像
業(yè)界**的X-射線分析技術(shù)
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