**的晶圓設(shè)備，微粒過(guò)濾和控制AMC是必須的。高效空氣過(guò)濾器在微電子行業(yè)的作用使微粒過(guò)濾和控制AMC是高收益、低退貨率的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)首要擔(dān)心的問(wèn)題。不能很好的在潔凈室或設(shè)備中控制微粒或AMC將大大的削弱企業(yè)的經(jīng)營(yíng)利潤(rùn)。潔凈室的*主要的問(wèn)題是產(chǎn)品、工具、加工過(guò)程和氣味控制的污染 .1962年生產(chǎn)出晶體管——晶體管理邏輯電路和發(fā)射極藉合邏輯電路。MOS集成電路出現(xiàn)。由于MOS電路在高度集成方面的優(yōu)點(diǎn)和集成電路對(duì)電子技術(shù)的影響，集成電路發(fā)展越來(lái)越快。
70年代，高效空氣過(guò)濾器在微電子行業(yè)的作用使微電子技術(shù)進(jìn)入了以大規(guī)模集成電路為中心的新階段。隨著集成密度日益提高，集成電路正向集成系統(tǒng)發(fā)展，電路的設(shè)計(jì)也日益復(fù)雜、費(fèi)時(shí)和昂貴。實(shí)際上如果沒(méi)有計(jì)算機(jī)的輔助，較復(fù)雜的大規(guī)模集成電路的設(shè)計(jì)是不可能的。70年代以來(lái)，集成電路利用計(jì)算機(jī)的設(shè)計(jì)有很大的進(jìn)展。制版的計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)、器件模擬、電路模擬、邏輯模擬、布局布線的計(jì)算輔助設(shè)計(jì)等程序，都先后研究成功，并發(fā)展成為包括校核、優(yōu)化等算法在內(nèi)的混合計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)，乃至整套設(shè)備的計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)系統(tǒng)。
集成電路制造的計(jì)算機(jī)管理，也已開(kāi)始實(shí)現(xiàn)。此外，與大規(guī)模集成和超大規(guī)模集成的高速發(fā)展相適應(yīng)，有關(guān)的器件材料科學(xué)和技術(shù)、測(cè)試科學(xué)和計(jì)算機(jī)輔助測(cè)試、封裝技術(shù)和超凈室技術(shù)等都有重大的進(jìn)展。電子技術(shù)發(fā)展很快，在工藝技術(shù)上，微細(xì)加工技術(shù)，如電子束、離子束、X射線等復(fù)印技術(shù)和干法刻蝕技術(shù)日益完善，使生產(chǎn)上在到亞微米以至更高的光刻水平，集成電路的集成棄將超大型越每片106—107個(gè)元件，以至達(dá)到全圖片上集成一個(gè)復(fù)雜的微電子系統(tǒng)。高質(zhì)量的超薄氧化層、新的離子注入退火技術(shù)、高電導(dǎo)高熔點(diǎn)金屬以其硅化物金屬化和淺歐姆結(jié)等一系列工藝技術(shù)正獲得進(jìn)一步的發(fā)展。在微電子技術(shù)的設(shè)計(jì)和測(cè)試技術(shù)方面，隨著集成度和集成系統(tǒng)復(fù)雜性的提高，冗余技術(shù)、容錯(cuò)技術(shù)，將在設(shè)計(jì)技術(shù)中得到廣泛應(yīng)用。
微粒過(guò)濾 MegaCel 過(guò)濾器專(zhuān)門(mén)為滿足嚴(yán)格的半導(dǎo)體行業(yè)而設(shè)計(jì)，涉及到生產(chǎn)區(qū)、模塊式區(qū)域，小型或微型環(huán)境。MegaCel過(guò)濾器的開(kāi)發(fā)提供了極高效率、低阻力的性能。
Standards:
EN1822
ISO 14644
AMC過(guò)濾器
ISO Standard14644-8是針對(duì)潔凈室及其相關(guān)的受控環(huán)境-2004年第8部分介紹了其在潔凈室和相關(guān)受控環(huán)境中分子空氣污染的等級(jí)。
為了實(shí)現(xiàn)和滿足ISO標(biāo)準(zhǔn)，工廠和晶片制造商必須關(guān)注所有所有區(qū)域的設(shè)備在空氣中的使用、處理和需求的過(guò)程，包括：
供給的空氣軌跡
循環(huán)空氣軌跡(使用過(guò)濾風(fēng)機(jī)控制的局部區(qū)域像大廳、微環(huán)境和封閉地區(qū))
高效空氣過(guò)濾器在微電子行業(yè)的作用排氣軌跡
需要空氣凈化和潔凈的微環(huán)境。
外部或內(nèi)部的AMC的來(lái)源
內(nèi)部來(lái)源包括在潔凈室內(nèi)化學(xué)藥品的制造過(guò)程和原材料由于意外或?yàn)?zāi)難的溢漏。在微型環(huán)境中由于深紫外
線的化學(xué)反應(yīng)也是來(lái)源之一
外部來(lái)源包括通過(guò)空氣送風(fēng)系統(tǒng)帶來(lái)的來(lái)自工業(yè)生產(chǎn)、交通廢氣、海洋、季節(jié)性因素和風(fēng)向的污染，
影響鄰近的地點(diǎn)或設(shè)備。
公安機(jī)關(guān)備案號(hào)：
