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日本日立HITACHI日立超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡Regulus系列，成都強勢供應(yīng)
日本日立HITACHI超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡Regulus系列  的詳細(xì)介紹


  • 沿用"SU8200系列"的冷場發(fā)射電子槍*2
  • 采用電子束在Flashing后出現(xiàn)的高亮度穩(wěn)定區(qū)域作為穩(wěn)定觀察的區(qū)間，使得低加速電壓條件下兼?zhèn)涓叻直嬗^察和分析的佳性能
  • 與現(xiàn)有機型相比分辨率提高了20％左右
    (Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV)
  • 采用污染小、高真空樣品倉
  • 運用能量過濾器(選配)，可觀察到多種成分對比度*2

極低著陸電壓下高分辨觀察

極低著陸電壓下高分辨觀察
樣品：金顆粒
著陸電壓：10 V

超高分辨觀察

超高分辨觀察
樣品：Pt催化劑
加速電壓：30 kV

低加速電壓下高分辨EDX分析

低加速電壓下高分辨EDX分析
樣品：Sn球
著陸電壓：1.5 kV

 
*2

**Regulus8240/8230/8220

項目 Regulus 8100 Regulus 8220 Regulus 8230 Regulus 8240
二次電子分辨率 0.8 nm
（加速電壓15 kV）
1.1 nm
（著陸電壓1 kV）*3 		0.7 nm（加速電壓 15 kV）
0.9 nm（著陸電壓 1 kV）*3
著陸電壓 0.1～2 kV 0.01～20 kV
放大倍率 20～1,000,000倍*4 20～2,000,000倍*4
樣品臺 樣品臺控制 3軸馬達臺（可選5軸馬達臺） 5軸馬達驅(qū)動
移動范圍 X 0～50 mm 0～50 mm 0～110 mm 0～110 mm
Y 0～50 mm 0～50 mm 0～110 mm 0～80 mm
R 360°
T -5～70°
Z 1.5～30 mm 1.5～40 mm
再現(xiàn)性 - - - ±0.5 μm以下含±0.5 μm
*3
減速模式下觀察
*4
以127 mm × 95 mm底片為基準(zhǔn)的倍率

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