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公司新聞

日本日立HITACHI日立超高分辨肖特基場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU7000,重慶強(qiáng)勢(shì)供應(yīng)

日本日立HITACHI超高分辨肖特基場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU7000  的詳細(xì)介紹

核心理念

  1. 采用優(yōu)異的成像技術(shù)
    SU7000可以迅速獲取從大視野全貌圖到表面微細(xì)結(jié)構(gòu)等多種檢測(cè)信號(hào)。全新設(shè)計(jì)的電子光學(xué)系統(tǒng)和檢測(cè)系統(tǒng),使得裝置可以同時(shí)接收二次電子和背散射電子等信號(hào),用戶(hù)可以在短時(shí)間內(nèi)獲得更**的樣品信息。
  2. 采用多通道成像技術(shù)
    隨著用戶(hù)對(duì)成像需求的不斷增長(zhǎng),SU7000特新增了幾種探測(cè)器,還引進(jìn)了相應(yīng)的成像功能。SU7000多可同時(shí)顯示和保存6通道信號(hào)。實(shí)現(xiàn)了獲得樣品信息的 大化。
  3. 支持不同形狀樣品、多種觀(guān)察方法
    ?大型樣品觀(guān)察
    ?低真空觀(guān)察
    ?超低溫觀(guān)察
    ?實(shí)時(shí)觀(guān)察
    等所需的樣品倉(cāng)和真空系統(tǒng)都十分完備,觀(guān)察方法也是一應(yīng)俱全。
  4. 支持微納解析
    采用肖特基發(fā)射電子槍?zhuān)?大束流可達(dá)到200 nA,適用于各種微納解析。樣品倉(cāng)形狀和接口設(shè)置支持EDX分析、EBSD、陰極熒光分析等,接口設(shè)備可通過(guò)選配附件滿(mǎn)足各種特殊需求。

成像能力

追求信息 大化的檢測(cè)系統(tǒng)

隨著用戶(hù)對(duì)樣品數(shù)據(jù)的需求更加多元化,對(duì)檢測(cè)系統(tǒng)在短時(shí)間內(nèi)捕捉更多的信息提出了更高的要求。SU7000的檢測(cè)系統(tǒng)可以在不改變WD等條件的前提下,更高效地獲取形貌、成分、晶體學(xué)以及發(fā)光等信息。真正實(shí)現(xiàn)了更快速、更**的信息收集。

同一條件觀(guān)察

樣品:包裹有機(jī)物的金屬棒

樣品提供:Vassar College, Chemistry Dept. 
Mr. Smart and Ms. Pineda

通過(guò)UD、MD、LD探測(cè)器同時(shí)采集信號(hào)的應(yīng)用實(shí)例 (加速電壓:1 kV)
通過(guò)UD、MD、LD探測(cè)器可以同時(shí)采集信號(hào),UD可獲取表面微細(xì)形狀信息,MD可獲取表面有機(jī)物包覆狀態(tài)信息,LD可獲取整體凹凸形貌信息。在同一個(gè)條件下,實(shí)現(xiàn)了獲取信息的 大化。

采用可多通道顯示的GUI設(shè)計(jì)

優(yōu)化信號(hào)顯示功能

    成像單元在信號(hào)顯示上也作了全新升級(jí)。
  • 用戶(hù)可根據(jù)觀(guān)察需求,選擇不同的視場(chǎng)角和通道數(shù)。
  • 單屏 多可同時(shí)顯示4通道信號(hào)。
  • 導(dǎo)航功能(SEM MAP)可以輕松捕捉到顯示樣品倉(cāng)內(nèi)信息的CCD相機(jī)圖像和相機(jī)拍攝到的樣品圖像,快速顯示目標(biāo)圖像。
  • 使用雙屏顯示時(shí),可在一個(gè)顯示屏上雙通道顯示1,280×960像素的圖像,另一個(gè)顯示屏專(zhuān)門(mén)用來(lái)顯示信號(hào), 多可同時(shí)顯示6通道信號(hào)。

高自由度的界面布局

使用單屏?xí)r,可以單通道、雙通道、四通道顯示樣品信息,也可以顯示CCD相機(jī)圖像、樣品臺(tái)圖像/SEM MAP圖像等。而且操作畫(huà)面上的工具欄可以任意移動(dòng)、添加和刪除。

支持雙屏顯示

1st顯示屏專(zhuān)門(mén)用來(lái)顯示圖像,2nd顯示屏用來(lái)顯示操作面板畫(huà)面。上圖左圖(1st顯示屏)是通過(guò)SU7000觀(guān)察到的鋼鐵中非金屬夾雜物的圖片。圖中清晰呈現(xiàn)出UD、LD、UVD、MD、PD-BSED5個(gè)探測(cè)器捕捉到的圖像以及SEM MAP圖。右圖(2nd顯示屏)將操作面板菜單和圖像歷史記錄窗口在同一個(gè)畫(huà)面中顯示,界面布局清晰明了。在實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)監(jiān)控圖像的同時(shí),操作性能也得到了進(jìn)一步提升。

可擴(kuò)展觀(guān)察和分析方法

樣品倉(cāng)和馬達(dá)臺(tái)


樣品倉(cāng)外觀(guān)
標(biāo)配18個(gè)附件接口


馬達(dá)臺(tái)外觀(guān)
XY軸可移動(dòng)距離為135×100 mm

樣品倉(cāng)可搭載 大直徑為φ 250 mm; 高80 mm的樣品。大開(kāi)倉(cāng)設(shè)計(jì),標(biāo)配18個(gè)附件接口。樣品臺(tái)可搭載XY軸 大移動(dòng)距離為135×100 mm, 重2 kg的樣品。搭載大型樣品和功能樣品臺(tái)完全不成問(wèn)題。

相機(jī)導(dǎo)航功能(*)

通過(guò)相機(jī)拍攝樣品

將相機(jī)拍攝到的圖像顯示到SEM MAP畫(huà)面上進(jìn)行導(dǎo)航

SU7000可選配導(dǎo)航相機(jī)(*),迅速鎖定要觀(guān)察的位置。相機(jī)安裝在樣品倉(cāng)內(nèi),插入樣品后,可半自動(dòng)拍攝樣品的整體圖像。該圖像會(huì)被顯示到導(dǎo)航畫(huà)面(SEM MAP)窗口,因此,用戶(hù)可以觀(guān)察窗口中的圖像判斷位置。 大適用尺寸為φ 100 mm。

(*)
可選配相機(jī)。

支持動(dòng)態(tài)觀(guān)察的檢測(cè)系統(tǒng)

SU7000可用于環(huán)境改變的動(dòng)態(tài)觀(guān)察。低真空觀(guān)察時(shí),可以選用PD-BSED(背散射電子探測(cè)器)、UVD、MD等各種探測(cè)器(**)

低真空環(huán)境的探測(cè)器選擇
左圖為通過(guò)MD(背散射電子),右圖為通過(guò)UVD(二次電子)探測(cè)器觀(guān)察到的金屬氧化物纖維的情況。兩張圖分別清晰地呈現(xiàn)出氧化物的分散狀態(tài)和纖維的堆積情況。

PD-BSED:響應(yīng)速度提高
左圖是以一般的響應(yīng)速度,約每?jī)擅霋呙枰淮蔚玫降膱D像;右圖抑制了圖像的漂移,使得整體的畫(huà)質(zhì)得到了大幅提升。隨著響應(yīng)速度的提高,更適用于In-Situ觀(guān)察。

(**)
可選配PD-BSED、UVD。

項(xiàng)目 內(nèi)容
圖像分辨率 二次電子分辨率 0.8 nm/15 kV
0.9 nm/1 kV
放大倍率 20~2,000,000 x
電子槍 發(fā)射體 ZrO/W熱場(chǎng)發(fā)射(肖特基熱場(chǎng)發(fā)射)
加速電壓 0.1~30 kV (步進(jìn):0.01 kV)
束流 大200 nA
探測(cè)器 標(biāo)準(zhǔn)探測(cè)器 UD (上探測(cè)器)
MD (中探測(cè)器)
LD (下探測(cè)器)
選配探測(cè)器*1 PD-BSED (半導(dǎo)體式背散射電子探測(cè)器)
UVD(高靈敏度低真空探測(cè)器 )
低真空模式*1 樣品倉(cāng)壓力范圍 5~300 Pa
可使用探測(cè)器 PD-BSED, UVD, UD, MD, LD
馬達(dá)臺(tái) 馬達(dá)臺(tái)控制 5軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)
移動(dòng)范圍 X 0~135 mm
Y 0~100 mm
Z(WD) 1.5~40 mm
T(傾斜角) -5~70°
R(旋轉(zhuǎn)角) 360°
樣品尺寸 大直徑:φ200 mm, 大高度:80 mm
顯示器*1 23英寸LCD (1,920×1,080), 支持雙屏
圖像顯示模式 全屏顯示模式 1,280×960像素顯示
單屏顯示模式 800×600像素顯示
雙屏顯示模式 800×600像素顯示、1,280×960像素顯示 *2
四屏顯示模式 640×480像素顯示
六屏顯示模式*2 640×480像素顯示 *2
圖像數(shù)據(jù)保存 保存圖像尺寸 640×480、1,280×960、2,560×1,920、5,120×3,840、10,240×7,680
選配附件 能譜儀(EDX)
X射線(xiàn)波譜儀(WDX)
電子背散射衍射(EBSD)
陰極熒光探測(cè)器(CL)
冷凍傳輸系統(tǒng)
各種功能樣品臺(tái)
*1
為選配項(xiàng)。
*2
支持雙屏顯示。

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