減反射膜與工藝的磚利100余篇目錄,你被圈進(jìn)來了嗎?
1CN01135809.2 低折射率材料和減反射膜
2 CN02140488.7 抗激光損傷寬譜帶減反膜的制備方法
3 CN89106212.2 防霧多層減反射膜
4 CN97190350.6 含氟多官能(甲基)酯、含氟單體組合物、低折射率材料以及減反射膜
5 CN97190972.5 含氟多官能(甲基)酯、組合物、低折射率材料及減反射膜
6 CN98106504.X 一種高抗激光損傷減反膜的制備方法
7 CN99116819.4 透明導(dǎo)電薄膜和減反射薄膜噴涂裝置及其方法
8 CN00127818.5 InSb紅外焦平面列陣器件減反射膜淀積方法及專用掩膜架
9 CN00814181.9 制造具有減反射膜的半導(dǎo)體存儲裝置的方法
10 CN2.X 可見光減反射與紫外線截止雙功能鍍膜玻璃及其制備方法
11 CN2.5 提高單晶硅太陽能電池減反射膜質(zhì)量的方法
12 CN2.X 具有減反射膜的玻璃片和用于窗子的層疊玻璃
13 CN2.2 顯示器用減反射膜
14 CN2.9 寬光譜減反射薄膜的制備方法
15 CN2.9 在硅太陽能電池表面制備復(fù)合波長變換-減反射膜的方法
16 CN2.6 減反射層積膜和使用該減反射層積膜的顯示裝置
17 CN2.6 硅太陽能電池減反射薄膜
18 CN2.3 用于紫外光探測器的雙層減反射膜及其制備方法
19 CN2.1 用于減反射聚合物膜的低折射率含氟聚合物涂料組合物
20 CN2.X 一種太陽能電池用透明導(dǎo)電減反射薄膜及其制備方法
21 CN2.4 多晶硅太陽電池減反射膜制備方法及多晶硅太陽電池
22 CN2.0 鍍氮化硅減反射膜的方法
23 CN2.8 一種復(fù)合寬帶減反增透薄膜及其制備方法
24 CN2.7 一種雙層氮化硅減反膜的制作方法
25 CN2.4 包括具有折射率不同的兩個(gè)獨(dú)立區(qū)域的分散體的減反射膜
26 CN2.4 一種晶體硅太陽能電池減反射膜及其鍍膜方法
27 CN2.X 介孔減反膜與透明導(dǎo)電膜復(fù)合鍍膜玻璃及其鍍膜方法
28 CN2.0 一種晶體硅太陽能電池三層減反射膜及其制備方法
29 CN2.9 雙層氮化硅減反射膜制備方法
30 CN2.7 一種免燒結(jié)玻璃表面減反膜的制備方法
31 CN2.4 一種適用于減反射鍍膜光伏玻璃制作的輥涂設(shè)備
32 CN2.8 一種多晶硅太陽電池的減反射膜膜系及制備方法
33 CN2.8 光學(xué)元件用減反射膜、減反射油漆和光學(xué)元件
34 CN2.6 一種晶體硅太陽能電池多層氮化硅減反射膜及其制備方法
35 CN2.7 一種晶體硅太陽能電池四層減反射膜及其制備方法
36 CN2.7 太陽電池封裝用耐候減反射鍍膜玻璃
37 CN2.7 減反射可見光與反射近紅外線雙功能鍍膜玻璃及其制備方法
38 CN2.2 一種沉積減反射膜的方法
39 CN2.X 一種GaAs系太陽能電池的多層減反射膜
40 CN2.3 一種晶硅太陽能電池三層減反射膜及其制備工藝
41 CN2.2 一種太陽能電池減反射膜的制備方法
42 CN2.2 利用兩親嵌段共聚物選擇性溶脹成孔制備減反射膜的方法
43 CN2.6 一種漸變折射率減反射膜的制備方法
44 CN2.0 一種SiO<sub>2</sub>減反射薄膜及其制備方法
45 CN2.1 一種制備晶體硅太陽能電池沉積減反射薄膜的方法
46 CN02159145.8 雙層減反射膜氧化鈦/氧化釔退膜方法
47 CN2.4 用于減反射聚合物膜的包含烯屬硅烷的含氟聚合物涂料組合物
48 CN2.7 減反射光學(xué)膜及其制造方法
49 CN2.1 一種用于晶硅太陽電池的復(fù)合鈍化減反膜及其制備方法
50 CN2.7 亞波長結(jié)構(gòu)的減反射膜的制備方法
51 CN2.3 可見區(qū)、1.06μm和8-12μm三波段高效減反射膜
52 CN2.3 低折射率納米材料減反射膜
53 CN2.X 一種太陽能電池的雙層減反射膜加工方法
54 CN2.9 太陽電池減反射膜生產(chǎn)工藝
55 CN2.0 硅太陽能電池雙層減反射薄膜及其制備方法
56 CN2.X 一種減反射抗霧薄膜及其制備方法、專用涂液與應(yīng)用
57 CN2.2 UV-可固化的減反射涂層組合物、使用該組合物的減反射涂層膜及其制備方法
58 CN2.6 具有防污性的減反射涂層組合物,使用該組合物的減反射涂膜及其制備方法
59 CN2.7 在聚碳酸酯/聚甲基復(fù)合板上的減反射膜及制備方法
60 CN2.2 一種應(yīng)用于冶金硅太陽電池的減反射膜及其制備方法
61 CN2.2 減反射膜的形成方法及光學(xué)元件
62 CN2.4 折射率可控的多孔性二氧化硅減反膜的制備方法
63 CN2.2 用于減反射的涂層組合物和通過使用該涂層組合物制備的減反射膜
64 CN2.0 一種晶硅太陽能電池雙層減反射膜及其制備方法
65 CN2.0 減反射膜、光學(xué)構(gòu)件、光學(xué)系統(tǒng)
66 CN2.0 一種晶體硅太陽能電池雙層減反射膜的制作方法
67 CN2.6 一種紅外雙波段減反射膜膜系及其鍍制方法
68 CN2.2 用層層自組裝法制備全納米顆??梢姽鈪^(qū)減反射膜的方法
69 CN2.0 全角度寬波長范圍使用的減反射薄膜及其制備方法
70 CN2.4 硅基太陽能電池表面嵌入式多孔硅結(jié)構(gòu)減反射膜的制備方法
71 CN2.7 光伏玻璃表面減反射膜的制備方法
72 CN2.2 一種鍍有可鋼化減反射膜層的光伏玻璃及其制作方法
73 CN2.5 具有減反射涂層的薄膜太陽能電池用透明導(dǎo)電玻璃基板
74 CN2.2 全自動大型平板式PECVD晶硅光伏減反射覆膜制備設(shè)備
75 CN2.1 鍍有雙層減反射膜的光伏玻璃及其制備方法
76 CN2.2 一種新型減反射膜太陽能蓋板玻璃及制作方法
77 CN2.2 用于減反射的涂料組合物、減反射膜和制備該減反射膜的方法
78 CN2.8 用于減反射的涂料組合物和通過使用該涂料組合物制備的減反射膜
79 CN2.X 納米結(jié)構(gòu)減反射涂膜和相關(guān)方法及器件
80 CN2.6 一種減反射膜及其制備方法
81 CN2.5 改善單晶硅太陽能電池減反射膜特性的方法
82 CN2.2 表面具有光催化功能的自潔減反膜制備方法
83 CN2.4 一種減反射薄膜SiNx:H表面原位NH<sub>3</sub>等離子體處理方法
84 CN2.X 太陽能電池表面三層減反鈍化膜
85 CN2.0 實(shí)現(xiàn)太陽能電池緩變疊層減反射薄膜的方法
86 CN2.8 一種減反射高透過率鍍膜太陽能超白壓花玻璃及其制造方法
87 CN2.7 一種晶體硅太陽能電池雙層減反射膜及其制備方法
88 CN2.8 降低表面復(fù)合減反膜電池的工藝
89 CN2.8 一種太陽能電池減反射膜及其制備方法
90 CN2.9 一種太陽能電池的多層減反膜以及其制作方法
91 CN2.2 一種連續(xù)制備晶體硅太陽能電池PN結(jié)及減反膜的方法
92 CN2.5 一種AZO減反射膜制備方法
93 CN2.3 自清潔陶瓷化納米玻璃減反射涂料制造方法及其減反射膜制造方法
94 CN2.8 一種在PN結(jié)硅芯片上形成減反射膜的方法
95 CN2.0 鍍有復(fù)合電介質(zhì)層和復(fù)合減反層的高透射鍍膜玻璃及生產(chǎn)工藝
96 CN2.7 含有三層復(fù)合減反層的高遮陽三銀低輻射鍍膜玻璃及工藝
97 CN2.6 同時(shí)形成晶體硅太陽能電池PN結(jié)和氮化硅減反射膜的方法
98 CN2.X 一種具有減反射膜的大面積硅基薄膜太陽電池及其制備方法
99 CN2.8 有機(jī)模板摻雜制備孔隙率可調(diào)控納米多孔減反增透薄膜的方法
100 CN2.9 一種高透過納米二氧化硅減反射薄膜及其制備方法和應(yīng)用
101 CN2.2 一種用于晶體硅太陽電池的復(fù)合鈍化減反膜及制備方法
102 CN2.6 納米減反薄膜或增透膜以及光學(xué)或光電器件的制備方法
103 CN2.6 一種晶硅太陽電池減反射膜及其制備方法
104 CN2.4 一種太陽能電池AZO減反射膜制備方法
105 CN2.6 晶體硅太陽能電池片減反射膜制備工藝
106 CN2.0 一種太陽能電池片的減反射膜及其制備方法
107 CN2.8 用于晶體硅太陽能電池的減反鈍化復(fù)合膜及其制備方法
108 CN2.0 一種電腦減反膜鏡片
109 CN2.4 減反射鍍膜溶液、其制備方法和光伏玻璃及其制備方法
110 CN2.0 一種晶體硅太陽電池的漸變減反射氮化硅薄膜的制備工藝
111 CN2.2 一種在可見光區(qū)域反射無色光的減反射膜制作方法
112 CN2.4 在基板上形成減反射膜的方法、太陽能電池片及制備方法
113 CN2.3 一種在晶體硅太陽電池前表面制備鈍化減反射膜的方法
114 CN2.6 化學(xué)汽相沉積法鍍制玻璃減反射膜的設(shè)備及方法
115 CN2.5 單晶硅太陽能電池用疊層減反射膜
116 CN2.1 一種太陽電池雙層減反射膜的制備方法
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大致看了一下,采用的sol-gel的磚利數(shù)占據(jù)優(yōu)良優(yōu)勢,希望這條產(chǎn)業(yè)鏈上出現(xiàn)越來越多中國企業(yè)的影子,出現(xiàn)更多有特點(diǎn)特色的中國材料企業(yè)和制備企業(yè)。
上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件?的高科技企業(yè),公司成立2005年,專業(yè)的光電鍍膜公司,公司產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工;光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開發(fā)和生產(chǎn),為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。
采用德國薄膜制備工藝,形成了一套具有嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系,能夠制備各種超高性能光學(xué)薄膜,包括紅外薄膜、增透膜,ARcoating, 激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜,應(yīng)用領(lǐng)域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、紅外制導(dǎo)、面部識別、VR/AR應(yīng)用,博物館,低反射櫥窗玻璃,畫框等。