一種鏡片分層鍍膜方法與流程
技術介紹
現有的鏡片鍍膜工藝中，一般是在鏡片的凸面上鍍減反射膜層(AR膜)，再在減反射膜層上蒸鍍一層防水膜層，減反射膜層一般由氧化硅或氧化鋯等組成。但是，使用現有技術的鍍膜工藝對現有的鏡片進行鍍膜，鍍膜后的膜層與鏡片之間的附著力普遍偏低(傳統(tǒng)的檢驗方式：使用3M膠撕拉)，使用3M膠撕拉1次即整個膜層脫離鏡片。同時，為了更好的防藍光，本磚利技術使用防藍光效果好的ZEONEX350R(日本瑞翁產品系列)光學級塑膠材料進行注塑成型鏡片，但是該系列產品中加入了較多的添加劑，傳統(tǒng)的成型和鍍膜方法中，添加劑容易在鏡片表面釋放造成后續(xù)鍍膜附著力下降。
技術實現思路
本磚利技術提供一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法，解決了現有技術中AR膜層附著力低的技術問題，同時也優(yōu)化了鏡片的光學性能。為了解決上述技術問題，本磚利技術所采取的技術方案為：一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法，包括以下步驟：A、光學塑膠材料通過注塑機注塑成型得到鏡片基體；B、將該鏡片基體放入真空鍍膜機的鍍膜腔內，抽真空并預加熱，使得鍍膜腔內真空度和溫度滿足一定條件；C、先后交替蒸鍍Ti3O5減反射膜層和SiO2減反射膜層，蒸鍍Ti3O5減反射膜層：打開離子源中氬氣閥門通入氬氣，真空度調整至1.3-2.0*10-2Pa，打開電子槍對Ti3O5加熱使其蒸發(fā)，同時打開離子源中氧氣閥門通入30-50sccm流量的氧氣；蒸鍍SiO2減反射膜層：Ti3O5減反射膜層鍍膜完成后，關閉氧氣和電子槍，打開離子源中氬氣閥門通入氬氣，真空度調整至1...
【技術保護點】
1.一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法，其特征在于包括以下步驟：A、光學塑膠材料通過注塑機注塑成型得到鏡片基體；B、將該鏡片基體放入真空鍍膜機的鍍膜腔內，抽真空并預加熱，使得鍍膜腔內真空度和溫度滿足一定條件；C、先后交替蒸鍍Ti3O5減反射膜層和SiO2減反射膜層，蒸鍍Ti3O5減反射膜層：打開離子源中氬氣閥門通入氬氣，真空度調整至1.3?2.0*10?2Pa，打開電子槍對Ti3O5加熱使其蒸發(fā)，同時打開離子源中氧氣閥門通入30?50sccm流量的氧氣；蒸鍍SiO2減反射膜層：Ti3O5減反射膜層鍍膜完成后，關閉氧氣和電子槍，打開離子源中氬氣閥門通入氬氣，真空度調整至1.0?1.3*10?4Pa，之后打開電子槍對SiO2加熱并使其蒸發(fā)；D、完成步驟C后，在蒸鍍有減反射膜層的鏡片基體上再蒸鍍一層防水膜層。
【技術特征摘要】
1.一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法，其特征在于包括以下步驟：A、光學塑膠材料通過注塑機注塑成型得到鏡片基體；B、將該鏡片基體放入真空鍍膜機的鍍膜腔內，抽真空并預加熱，使得鍍膜腔內真空度和溫度滿足一定條件；C、先后交替蒸鍍Ti3O5減反射膜層和SiO2減反射膜層，蒸鍍Ti3O5減反射膜層：打開離子源中氬氣閥門通入氬氣，真空度調整至1.3-2.0*10-2Pa，打開電子槍對Ti3O5加熱使其蒸發(fā)，同時打開離子源中氧氣閥門通入30-50sccm流量的氧氣；蒸鍍SiO2減反射膜層：Ti3O5減反射膜層鍍膜完成后，關閉氧氣和電子槍，打開離子源中氬氣閥門通入氬氣，真空度調整至1.0-1.3*10-4Pa，之后打開電子槍對SiO2加熱并使其蒸發(fā)；D、完成步驟C后，在蒸鍍有減反射膜層的鏡片基體上再蒸鍍一層防水膜層。2.根據權利要求1所述的一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法，其特征在于：在步驟B之后，開始步驟C之前，打開離子源通入氧氣對鏡片基體進行活化處理，活化處理時間為120-200秒。3.根據權利要求1所述的一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法，其特征在于：在步驟A之后，開始步驟B之前，鏡片基體放在烘箱內烘烤2-3小時，溫度設定在75-85度之間。4.根據權利要求1所述的一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法，其特征在于所述步驟A包括：將光學塑膠材料放入干燥機或除濕干燥機內進行烘烤；光學塑膠材料烘烤后放入注塑機進行注塑成型，注塑模具的溫度設定在120-130度之間，螺桿背壓設定在80-100kg之間。5.根據權利要求1所述的一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法，
上海卷柔新技術光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產光學儀器及其零配件?的高科技企業(yè)，公司成立２００５年，專業(yè)的光電鍍膜公司，公司產品主要涉及光學儀器及其零配件的研發(fā)和加工；光學透鏡、反射鏡、棱鏡等光學鍍膜產品的開發(fā)和生產，為全球客戶提供上等的產品和服務。
采用德國薄膜制備工藝，形成了一套具有嚴格工藝標準的閉環(huán)式流程技術制備體系，能夠制備各種超高性能光學薄膜，包括紅外薄膜、增透膜，ARcoating, 激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜，應用領域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、紅外制導、面部識別、VR/AR應用,博物館，低反射櫥窗玻璃，畫框等。
