光學(xué)鍍膜的原理
1、真空鍍膜真空鍍膜：真空鍍膜主要是指需要在更高真空下進行的涂料，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等多種涂料，所以。蒸發(fā)和濺射有兩種主要類型。將被鍍材料制成基材，將電鍍材料用作靶材或藥材。襯底處于與靶相同的真空中。
2、蒸發(fā)涂層通常是加熱目標，以使表面組分以自由基或離子的形式蒸發(fā)，并通過成膜方法（散射島結(jié)構(gòu) - 梯形結(jié)構(gòu) - 層狀生長）沉積在基材的表面上，薄膜。
3、對于濺射狀涂層，很容易理解目標材料是用電子或高能激光器轟擊的，表面組分以自由基或離子的形式濺射，*后沉積在基底表面上*終形成一部薄膜。