透明MXene薄膜與微波電磁輻射的相互作用
需要增透減反技術(shù)可以聯(lián)系我們上海工廠
上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件的高科技企業(yè)，公司2005年成立在上海閔行零號(hào)灣創(chuàng)業(yè)園區(qū)，專業(yè)的光電鍍膜公司，技術(shù)背景依托中國(guó)科學(xué)院，卷柔產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工；光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡，平板顯示，安防監(jiān)控等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)，為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。
通信技術(shù)的快速發(fā)展對(duì)電磁干擾屏蔽材料提出了更高的要求。然而，通過(guò)薄膜吸收電磁輻射來(lái)實(shí)現(xiàn)高屏蔽效率(SE)仍然是一個(gè)挑戰(zhàn)，但這正是微尺度、柔性和可穿戴設(shè)備所需解決的難題。2D碳化鈦MXene Ti3C2Tx，之前已被證明可以有效地反射電磁波。本文研究了超薄Ti3C2Tx薄膜的電磁屏蔽性能，并記錄了4nm厚薄膜高達(dá)50%的吸收率。結(jié)果測(cè)得，在4~40nm厚度薄膜的內(nèi)部平均電導(dǎo)率達(dá)到106S/m，同時(shí)平均弛豫時(shí)間估計(jì)約為2.3ps。本文數(shù)據(jù)與所報(bào)道的超薄金屬薄膜(如金)的數(shù)值相似，證明MXene材料可以取代貴金屬在電磁屏蔽上應(yīng)用。同時(shí)也證明MXene的導(dǎo)電機(jī)制從直流電到太赫茲不會(huì)改變。報(bào)告指出EMI SE與透射、反射和吸收功率的**值相關(guān)，使得能夠解釋MXene EMI屏蔽的先前結(jié)果。*后MXene薄膜可以從溶液沉積到各種基底表面上，為屏蔽微型設(shè)備和個(gè)人電子產(chǎn)品提供了一種有吸引力的替代方案。
圖1. (a)不同厚度的噴涂膜圖片(從左至右分別為4,15, 25, 40 nm) (b)光學(xué)顯微鏡下4nm厚Ti3C2Tx 薄膜的光學(xué)圖像 (c)光學(xué)顯微鏡下40nm厚Ti3C2Tx 薄膜的光學(xué)圖像 (d) 4nm厚Ti3C2Tx 薄膜的AFM圖像 (e) 40nm厚Ti3C2Tx薄膜的AFM圖像。
圖2. (a)反射、透射、吸收隨噴涂Ti3C2Tx 膜厚度的變化。在8nm處，觀察到50%的吸收。隨著厚度的增加，吸收減少，反射占主導(dǎo)地位 (b)反射率與SER (c)吸光度與SEA (d)透過(guò)率與SET的相關(guān)關(guān)系
圖3. (a)薄層電阻（藍(lán)色）隨厚度從208減小到21。紅色的直流值與微波??量值相符。用黃色繪制的薄層電阻是由于薄膜和波導(dǎo)法蘭之間差距引起的 (b)吸光度和SEA對(duì)薄層電阻的依賴性
圖4. 薄片電導(dǎo)率隨厚度的變化呈線性趨勢(shì)。斜率的計(jì)算使我們能夠估計(jì)電導(dǎo)率的實(shí)部為1.30×106S/m，虛部為1.9×105S/m。
*后，分析了Ti3C2Tx薄膜與8.2~12.4GHz (X波段)電磁輻射的相互作用下隨薄膜厚度變化的規(guī)律。對(duì)4nm的薄膜，吸光度高達(dá)49%。隨著厚度的增加，反射占主導(dǎo)地位。這可以由阻抗匹配一半自由空間來(lái)解釋的，即允許*大的吸收。阻抗的實(shí)部用于計(jì)算交流電導(dǎo)率值，數(shù)值與用四探針測(cè)量的直流片電阻高度一致。據(jù)估計(jì)，兩種測(cè)量結(jié)果之間的體積平面內(nèi)電導(dǎo)率幾乎無(wú)疑。這表明，在直流和交流下，導(dǎo)電機(jī)理是相同的，在微波頻率下的機(jī)理也可以用Drude模型來(lái)描述。基于這些結(jié)果，當(dāng)阻抗條件匹配時(shí)，在較寬的頻率范圍內(nèi)MXene薄膜可作為有效的吸收材料。因此通過(guò)設(shè)計(jì)可以制成多個(gè)納米薄膜來(lái)組裝成異質(zhì)結(jié)構(gòu)器件。結(jié)果再次證明了Ti3C2Tx的性能與摻雜Au薄膜相同；同時(shí)它具有多元元素（Ti、C和O）、易加工性以及獨(dú)特和可調(diào)的物理化學(xué)性質(zhì)使MXene在未來(lái)技術(shù)中具有吸引力。
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上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件的高科技企業(yè)，公司2005年成立在上海閔行零號(hào)灣創(chuàng)業(yè)園區(qū)，專業(yè)的光電鍍膜公司，技術(shù)背景依托中國(guó)科學(xué)院，卷柔產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工；光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡，平板顯示，安防監(jiān)控等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)，為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。
采用德國(guó)薄膜制備工藝，形成了一套具有嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系，能夠制備各種超高性能光學(xué)薄膜，包括紅外薄膜、增透膜，ARcoating,激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜，應(yīng)用領(lǐng)域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、光學(xué)科研，紅外制導(dǎo)、面部識(shí)別、VR/AR應(yīng)用,博物館，低反射櫥窗玻璃，畫框，工業(yè)燈具照明，廣告機(jī)，點(diǎn)餐機(jī)，電子白板，安防監(jiān)控等。
卷柔新技術(shù)擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的全自動(dòng)生產(chǎn)線【sol-gel溶膠凝膠法鍍膜線】，這條生產(chǎn)線能夠生產(chǎn)全球先進(jìn)的減反射玻璃。鍍膜版面可達(dá)到2440*3660mm，玻璃厚度從0.3mm到12mm都可以,另外針對(duì)PC,PMMA方面的增透膜也具有量產(chǎn)生產(chǎn)能力。ARcoating減反膜基本接近無(wú)色,色彩還原性好，并且可以避免了磁控濺射的缺點(diǎn)，鍍完增透膜后玻璃可以做熱彎處理和鋼化處理以及DIP打印處理。這個(gè)難度和具有很好的應(yīng)用性，新意突出，實(shí)用性突出，濕法鍍膜在價(jià)格方面也均優(yōu)于真空磁控的干法。
卷柔減反射(AR)玻璃的特點(diǎn):高透,膜層無(wú)色,膜硬度高,抗老化性強(qiáng)(耐候性強(qiáng)于玻璃),玻璃長(zhǎng)期使用存放不發(fā)霉,且有一定的自潔效果.AR增透減反膜玻璃產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于**文博展示、低反射幕墻、廣告機(jī)玻璃、節(jié)能燈具蓋板玻璃、液晶顯示器保護(hù)玻璃等多行業(yè)。
我們的愿景：卷柔讓光學(xué)更具價(jià)值！
我們的使命：有光的地方就有卷柔新技術(shù)！
我們的目標(biāo)：以高質(zhì)量的產(chǎn)品，優(yōu)惠的價(jià)格,貼心的服務(wù)，為客戶提供優(yōu)良的解決方案。
上海卷柔科技以現(xiàn)代鍍膜技術(shù)為核心驅(qū)動(dòng)力，通過(guò)鍍膜設(shè)備、鍍膜加工、光學(xué)鍍膜產(chǎn)品服務(wù)于客戶，努力為客戶創(chuàng)造新的利潤(rùn)空間和競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，為中國(guó)的民族制造業(yè)的發(fā)展貢獻(xiàn)力量。
