低溫恒溫循環(huán)器簡介

      低溫恒溫循環(huán)器常應(yīng)用于對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等起到很大作用。

      低溫恒溫循環(huán)器提供-40℃~105℃溫度范圍內(nèi)的高、低恒溫液體，以滿足用高、低溫做反應(yīng)的恒溫儀器的需要。

      特別適用與化學(xué)反應(yīng)釜、發(fā)酵罐、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、電子顯微鏡、阿貝折先儀、蒸發(fā)皿、生物制藥反應(yīng)器等實(shí)驗(yàn)設(shè)備配套使用。

      先進(jìn)的內(nèi)循環(huán)和外循環(huán)泵系統(tǒng)，內(nèi)循環(huán)使儀器溫度均勻恒定，外循環(huán)泵輸出16升/分~18升/分在流量高、低溫液體。8升~40升的工作槽容積內(nèi)還可放入裝有生化試劑或被測樣品的各種容器，直接進(jìn)行高低溫試驗(yàn)或測試，實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用。