標(biāo)準(zhǔn)臺(tái)階高度/溝槽深度(200~10000)nm，U≦1%,k=2；

本規(guī)范適用于激光共聚焦顯微鏡的校準(zhǔn)，其他基于共聚焦原理的顯微鏡校準(zhǔn)也可參照本規(guī)范。激光共聚焦顯微鏡利用共軛點(diǎn)照明、點(diǎn)探測(cè)原理，通過(guò)激光逐點(diǎn)照明掃描和空間針孔調(diào)制技術(shù)獲取光學(xué)層析圖像，從而得到被測(cè)物體二維圖像或三維表面形貌參數(shù)的儀器。共聚焦顯微鏡具有多種照明約束和探測(cè)形式，被廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、微納米加工、半導(dǎo)體器件和生命科學(xué)等領(lǐng)域。

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