光學(xué)薄膜分類匯聚大家庭

研究目標(biāo)：不斷提升光學(xué)薄膜與功能薄膜理論水平，完善薄膜制備工藝，開**型測試方法。在國內(nèi)實現(xiàn)**學(xué)科發(fā)展，滿足國家戰(zhàn)略需求的目的。 

主要研究方向如下： 

l 薄膜光學(xué)理論及成膜技術(shù)研究 

以電磁場理論為基礎(chǔ)，借鑒光子晶體理論和亞波長理論的相關(guān)知識，發(fā)展并完善薄膜光學(xué)理論；利用PVD和CVD手段進(jìn)行薄膜沉積技術(shù)研究，在微尺度上研究不同工藝的成膜物理過程，結(jié)合各種檢測等對薄膜的特性進(jìn)行準(zhǔn)確表征和深入研究，實現(xiàn)成膜機理認(rèn)識的突破。 

2 超大尺寸反射鏡鍍膜設(shè)備及工藝 

 針對超大尺寸反射鏡的特點，探索新的鍍膜方法，解決SiC反射鏡表面改性和高反射膜鍍制的難題，**國內(nèi)超大型真空鍍膜設(shè)備制造的發(fā)展，研發(fā)配套工藝，為我國地基和天基應(yīng)用的超大尺寸反射鏡鍍膜提供堅實的技術(shù)支持。 

3 新型硅基近紅外探測器光電材料研究 

通過對黑硅材料制備工藝、摻雜濃度、摻雜粒子種類、表面金屬納米顆粒沉積等方面的研究，深入探索黑硅材料的結(jié)構(gòu)與特性，突破其在光電探測器件中應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)問題。 

 4 雷達(dá)與紅外隱身功能材料設(shè)計與制備工藝技術(shù)研究 

通過開展雷達(dá)隱身超材料的宏觀本構(gòu)參數(shù)設(shè)計與反演技術(shù)、集總型有源可調(diào)控隱身材料與饋電網(wǎng)絡(luò)一體化設(shè)計技術(shù)、曲面激光刻蝕準(zhǔn)確定位與材料**去除技術(shù)、多維復(fù)合紅外隱身材料的分析設(shè)計與工藝制備技術(shù)的研究，突破傳統(tǒng)雷達(dá)隱身材料性能局限和制造瓶頸，發(fā)展頻率可調(diào)控的有源隱身材料技術(shù)，建立起完備的設(shè)計、制造和測試條件保障，形成多功能雷達(dá)隱身材料的研制能力，實現(xiàn)多種型號應(yīng)用，滿足國家重大戰(zhàn)略需求；以紅外隱身技術(shù)為切入點，探索紅外隱身材料新機理、新方法，**紅外隱身材料制備工藝，為武器裝備的紅外隱身技術(shù)提供新思路、新技術(shù)。在此基礎(chǔ)上，進(jìn)一步將研究工作拓寬到可見光隱身技術(shù)領(lǐng)域，為我所在先進(jìn)光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域開辟新方向。 

光學(xué)薄膜按應(yīng)用分為反射膜、增透膜、濾光膜、

光學(xué)保護(hù)膜、偏振膜、分光膜和位相膜。常用的是前4種。光學(xué)反射膜用以增加鏡面反射率，常用來制造反光、折光和共振腔器件。光學(xué)增透膜沉積在光學(xué)元件表面，用以減少表面反射，增加光學(xué)系統(tǒng)透射，又稱減反射膜。光學(xué)濾光膜用來進(jìn)行光譜或其他光性分割，其種類多，結(jié)構(gòu)復(fù)雜。光學(xué)保護(hù)膜沉積在金屬或其他軟性易侵蝕材料或薄膜表面，用以增加其強度或穩(wěn)定性，改進(jìn)光學(xué)性質(zhì)。*常見的是金屬鏡面的保護(hù)膜。

◆ 光學(xué)薄膜的應(yīng)用無處不在，從眼鏡鍍膜到手機，電腦，電視的液晶顯示再到LED照明等等，它充斥著我們生活的方方面面，并使我們的生活更加豐富多彩。

◆ 光學(xué)薄膜的定義是：涉及光在傳播路徑過程中，附著在光學(xué)器件表面的厚度薄而均勻的介質(zhì)膜層，通過分層介質(zhì)膜層時的反射、透（折）射和偏振等特性，以達(dá)到我們想要的在某一或是多個波段范圍內(nèi)的光的全部透過或光的全部反射或是光的偏振分離等各特殊形態(tài)的光。

◆ 光學(xué)薄膜可分為“幾何光學(xué)和物理光學(xué)”，幾何光學(xué)是通過光學(xué)器件表面形成的幾何狀的介質(zhì)膜層，以使改變光路經(jīng)來實現(xiàn)光束的調(diào)整或再分配作用；物理光學(xué)是將自然界中特有的光學(xué)材料元素通過納米處理至所需的光學(xué)器件表面形成的介質(zhì)膜層，透過介質(zhì)膜層的光學(xué)材料元素的特性增強於改變光偏振，透射，反射等功能。

◆ 通常光學(xué)薄膜的制備條件要求高而精，制備光學(xué)薄膜分干式制備法和濕式制備法，干式制備法（ 含真空鍍膜：蒸發(fā)鍍，磁控濺鍍，離子鍍等）一般用於物理光學(xué)薄膜的制備，濕式制備法（含涂布法， 流延法，熱塑法等）一般用於幾何光學(xué)薄膜的制備。

◆ 迄今為止（2013年）常用的光學(xué)薄膜有：高反射膜；減反射膜；濾光膜；濾色膜；增透膜；聚光膜；擴(kuò)散膜；偏光膜等等。