柔性介電儲(chǔ)能薄膜領(lǐng)域*新進(jìn)展
需要增透減反技術(shù)可以聯(lián)系我們上海工廠
上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件的高科技企業(yè),公司2005年成立在上海閔行零號(hào)灣創(chuàng)業(yè)園區(qū),專業(yè)的光電鍍膜公司,技術(shù)背景依托中國(guó)科學(xué)院,卷柔產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工;光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡,平板顯示,安防監(jiān)控等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn),為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。
聚合物基柔性介電薄膜由于高介電強(qiáng)度、延展性好等特性廣泛應(yīng)用于電輸運(yùn)以及電動(dòng)器械等**和民用科技領(lǐng)域。但是由于聚合物介電常數(shù)較低(通常K<10),往往儲(chǔ)能密度較低,而添加高介電常數(shù)填料伴隨而來(lái)的是復(fù)合材料機(jī)械性能和擊穿強(qiáng)度的迅速下降。盡管通過(guò)材料的表面改性或構(gòu)建多級(jí)界面結(jié)構(gòu),可以調(diào)控界面相容性和降低介電不匹配效應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)介電常數(shù)與擊穿強(qiáng)度的同時(shí)優(yōu)化,但是,目前這種廣泛依賴的高含量高介電填料的方法對(duì)于聚合物介電薄膜的大規(guī)模加工生產(chǎn)來(lái)說(shuō)依然是挑戰(zhàn)。課題組在前期研究基礎(chǔ)上,提出了基于界面結(jié)構(gòu)與性能調(diào)控的小尺寸低含量納米填料誘導(dǎo)聚合物介電性能大幅提升的方法,該研究受到廣泛關(guān)注?;谠摲椒ǎ谌〉媒殡姵?shù)有效提升的同時(shí),保持了聚合物本身的低損耗、高擊穿強(qiáng)度以及優(yōu)異的柔韌性和易加工性,表現(xiàn)出廣闊的應(yīng)用前景。同時(shí),對(duì)于聚合物納米復(fù)合材料的界面問(wèn)題以及介電理論模型的研究具有重要的基礎(chǔ)研究?jī)r(jià)值。
武漢理工大學(xué)董麗杰教授團(tuán)隊(duì)與美國(guó)賓夕法尼亞州立大學(xué)的王慶教授合作,發(fā)現(xiàn)通過(guò)向鐵電聚合物中添加微量(<1vol%)低介電超小尺寸的羥基化量子點(diǎn)納米材料,介電常數(shù)可大幅增加(100%),而介電損耗保持與純聚合物相近水平,*終在620 MV/m的電場(chǎng)強(qiáng)度下獲得了27.4 J/cm3的超高儲(chǔ)能密度。在如此低的填料含量下,基于體積平均的經(jīng)典“聚合物-填料”雙相介電理論模型無(wú)法解釋該介電增強(qiáng)現(xiàn)象。實(shí)驗(yàn)與理論模擬的結(jié)果顯示界面處發(fā)生局部結(jié)構(gòu)變化,引起極性構(gòu)象轉(zhuǎn)變和額外的界面偶極作用?;诖?,依托廣為接受的聚合物納米復(fù)合材料的多核理論模型和雙電層模型,該工作提出了一種包含界面增強(qiáng)介電常數(shù)φ的新型“聚合物-填料-界面”三相模型。應(yīng)用該模型得到的復(fù)合材料的介電常數(shù)與實(shí)驗(yàn)結(jié)果良好吻合,并可擬合其他文獻(xiàn)報(bào)道的在類似的低填充率下的結(jié)果。該工作以“Significant Improvements in Dielectric Constant and Energy Density of Ferroelectric Polymer Nanocomposites Enabled by Ultralow Contents of Nanofillers”為題發(fā)表在國(guó)際重要學(xué)術(shù)期刊Advanced Materials上。
盡管上述利用小尺寸低填充量填料誘導(dǎo)介電增強(qiáng)現(xiàn)象表現(xiàn)出廣闊的應(yīng)用前景,目前為止,該現(xiàn)象僅在少數(shù)鐵電聚合物、偶極線性介電聚合物中被發(fā)現(xiàn),還有待更多廣泛的實(shí)驗(yàn)體系的發(fā)掘,以系統(tǒng)地揭示該現(xiàn)象背后的機(jī)理,從而更好地指導(dǎo)新型高儲(chǔ)能密度、高放電效率聚合物介電材料的開(kāi)發(fā)與大規(guī)模生產(chǎn)。近日,團(tuán)隊(duì)成功地將該方法拓展到線性介電聚合物聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)中,實(shí)現(xiàn)了介電常數(shù)和擊穿強(qiáng)度的同時(shí)顯著提升(K從3.5 到5.9, Eb 從 500.1 MV/m 到 801.2 MV/m),獲得了17.6 J cm-3的放電能量密度(是純PMMA 的4400%), 同時(shí)保持著高充放電效率(~90%),進(jìn)一步證明了該方法的有效性和誘人的應(yīng)用前景。日前,該工作以“Significantly enhancing the dielectric constant and breakdown strength of linear dielectric polymers by utilizing ultralow loadings of nanofillers”為題發(fā)表在國(guó)際知名學(xué)術(shù)期刊Journal of Material Chemistry A上。
圖1 (a) PMMA 和PMMA/QD納米復(fù)合材料的頻變介電常數(shù)譜。(b) 隨填料含量變化的介電常數(shù)增強(qiáng)比與文獻(xiàn)報(bào)道結(jié)果的比較。
PMMA是一種常見(jiàn)的極性線性介電聚合物,相比于鐵電聚合物由于鐵電滯后導(dǎo)致的高能量損耗(<70%),PMMA的充放電效率很高(>80%);而相對(duì)于雙向拉伸聚丙烯(BOPP)以及其他線性介電聚合物(如PEI、 PI等)較低的介電常數(shù)來(lái)說(shuō),PMMA具有較高的介電常數(shù)(3.5~4)。同時(shí),PMMA的高機(jī)械強(qiáng)度以及優(yōu)異的絕緣性賦予其優(yōu)異的耐擊穿能力。通過(guò)將微量的0.8 vol%的經(jīng)過(guò)表面修飾的量子點(diǎn)加入到PMMA基體中,復(fù)合膜表現(xiàn)出69%的介電增強(qiáng)效應(yīng),顯著高于其他同水平填充量納米復(fù)合體系(如圖1所示),同時(shí)介電損耗依然保持在與純PMMA同等水平。該結(jié)果與經(jīng)典的聚合物-填料雙相介電模型給出的擬合結(jié)果相差較大,而與上述新發(fā)展的聚合物-填料-界面三模型吻合較好(誤差±10%以內(nèi)),表明該介電增強(qiáng)效應(yīng)與界面產(chǎn)生的額外的極化貢獻(xiàn)相關(guān)。XRD和DSC結(jié)果顯示,添加QDs后聚合物的非晶結(jié)構(gòu)并沒(méi)有改變,而玻璃化轉(zhuǎn)變溫度有所降低,表明QDs的存在使得局部聚合物鏈段運(yùn)動(dòng)能力增強(qiáng),對(duì)該P(yáng)MMA/QDs界面結(jié)構(gòu)進(jìn)行了理論模擬,發(fā)現(xiàn)界面處存在額外的0.68 D的偶極矩,并且具有10.5 eV的靜電勢(shì)差,證明該處由于結(jié)構(gòu)局部變化產(chǎn)生了額外的界面極化從而提升了介電常數(shù)。
2 PMMA/QD納米復(fù)合材料的介電常數(shù)與QD含量的關(guān)系,擬合 (a)經(jīng)典的雙組分介電模型和(b)新開(kāi)發(fā)的三組分間相介電模型。(c)利用DFT獲得PMMA/QD納米復(fù)合材料的弛豫界面結(jié)構(gòu)。幾何圖形沿三個(gè)正交視圖顯示:垂直和平行于鏈方向,從頂部。偶極矩為0.66 D,紅色箭頭表示其方向。(d) PMMA/QD納米復(fù)合材料界面上的靜電勢(shì)分布
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上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件的高科技企業(yè),公司2005年成立在上海閔行零號(hào)灣創(chuàng)業(yè)園區(qū),專業(yè)的光電鍍膜公司,技術(shù)背景依托中國(guó)科學(xué)院,卷柔產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工;光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡,平板顯示,安防監(jiān)控等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn),為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。
采用德國(guó)薄膜制備工藝,形成了一套具有嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系,能夠制備各種超高性能光學(xué)薄膜,包括紅外薄膜、增透膜,ARcoating,激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜,應(yīng)用領(lǐng)域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、光學(xué)科研,紅外制導(dǎo)、面部識(shí)別、VR/AR應(yīng)用,博物館,低反射櫥窗玻璃,畫(huà)框,工業(yè)燈具照明,廣告機(jī),點(diǎn)餐機(jī),電子白板,安防監(jiān)控等。
卷柔新技術(shù)擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的全自動(dòng)生產(chǎn)線【sol-gel溶膠凝膠法鍍膜線】,這條生產(chǎn)線能夠生產(chǎn)全球先進(jìn)的減反射玻璃。鍍膜版面可達(dá)到2440*3660mm,玻璃厚度從0.3mm到12mm都可以,另外針對(duì)PC,PMMA方面的增透膜也具有量產(chǎn)生產(chǎn)能力。ARcoating減反膜基本接近無(wú)色,色彩還原性好,并且可以避免了磁控濺射的缺點(diǎn),鍍完增透膜后玻璃可以做熱彎處理和鋼化處理以及DIP打印處理。這個(gè)難度和具有很好的應(yīng)用性,新意突出,實(shí)用性突出,濕法鍍膜在價(jià)格方面也均優(yōu)于真空磁控的干法。
卷柔減反射(AR)玻璃的特點(diǎn):高透,膜層無(wú)色,膜硬度高,抗老化性強(qiáng)(耐候性強(qiáng)于玻璃),玻璃長(zhǎng)期使用存放不發(fā)霉,且有一定的自潔效果.AR增透減反膜玻璃產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于**文博展示、低反射幕墻、廣告機(jī)玻璃、節(jié)能燈具蓋板玻璃、液晶顯示器保護(hù)玻璃等多行業(yè)。
我們的愿景:卷柔讓光學(xué)更具價(jià)值!
我們的使命:有光的地方就有卷柔新技術(shù)!
我們的目標(biāo):以高質(zhì)量的產(chǎn)品,優(yōu)惠的價(jià)格,貼心的服務(wù),為客戶提供優(yōu)良的解決方案。
上海卷柔科技以現(xiàn)代鍍膜技術(shù)為核心驅(qū)動(dòng)力,通過(guò)鍍膜設(shè)備、鍍膜加工、光學(xué)鍍膜產(chǎn)品服務(wù)于客戶,努力為客戶創(chuàng)造新的利潤(rùn)空間和競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì),為中國(guó)的民族制造業(yè)的發(fā)展貢獻(xiàn)力量。